Väitös materiaalitieteen alalta, DI Jarkko Etula

Väitöskirjan nimi: Exploring the envelope of physical vapor deposition: Nano- and microstructured films for electrochemical applications

Tohtoriopiskelija: DI Jarkko Etula
Vastaväittäjä: professori Kostas Sarakinos, Helsingin yliopisto
Kustos: professsori Tomi Laurila, Aalto-yliopiston kemian tekniikan korkeakoulu, kemian ja materiaalitieteen laitos

Mikrorakenteisten kalvojen valmistus sähkökemian sovelluksiin fysikaalisella höyrypinnoitusmenetelmällä

Fysikaalinen höyrypinnoitus (Physical Vapor Deposition, PVD) on teollisuudessa laajalti käytetty menetelmä korkealaatuisten sileiden kalvojen valmistukseen. Nämä sileät pinnat kuitenkin rajoittavat kalvojen suorituskykyä elektrodeina sähkökemiallisissa sovelluksissa, koska sileällä pinnalla on vähemmän pinta-alaa kemiallisille reaktioille.
Tämän työn ensimmäisessä osassa modifioidaan PVD-pinnoitettujen hiilikalvojen nanorakennetta parantamaan niiden suorituskykyä sähkökemiallisissa anturisovelluksissa. Toisessa osassa tätä PVD-menetelmää kehitetään edelleen luomaan eksoottisia mikrorakenteisia titaanioksidikalvoja, jotka tarjoavat suuren pinta-alan fotokatalyysi- ja mikroparistosovelluksiin. Tässä työssä löydetään ja tutkitaan uusia PVD-menetelmiä ja -ilmiöitä, jotka mahdollistavat suurten mikrorakenteiden suoran valmistamisen, joita eivät ole tyypillisesti mahdollisia perinteisillä PVD-menetelmillä. Nämä löydöt ja oivallukset määrittelevät uudelleen sen, mitä PVD-menetelmillä voidaan saavuttaa.
 

Linkki väitöskirjan sähköiseen esittelykappaleeseen (esillä 10 päivää ennen väitöstä)

Yhteystiedot:
DI Jarkko Etula
[email protected] 

Kemian tekniikan korkeakoulun väitöskirjat